Светочувствительный лак, в котором проявляется рисунок микросхемы
Химический состав, которым покрывают кремниевую пластину перед засветкой. Свет меняет растворимость лака там, куда попал, — и после проявки на пластине остаётся рисунок будущей схемы. Для каждого класса точности нужен свой тип резиста, и чем тоньше рисунок, тем сложнее химия.
Почему это важно: спор о том, кто кого обгоняет в чипах, обычно ведут про станки. Но станок без подходящего лака бесполезен, а рынок передовых резистов держат несколько японских компаний. Это самое тонкое место всей цепочки, и оно не похоже на технологию — оно похоже на канистру.
Насколько тонкое. По разбору шести слоёв производства в отчёте «Кремниевый занавес» узкое место всего китайского стека — не литография, как принято думать, а именно японский фоторезист: локализация по нему менее 10 %. То есть станок в стране уже есть, а лака к нему нет.
Почему заменить трудно. Резист подбирают не к «нанометрам вообще», а к конкретной паре станка и процесса, и любая замена означает заново пройти отладку и заново получить приемлемый выход годных. Поэтому запас химии считают месяцами поставок, а не тоннами.
Ещё пишут: фоторезисты, photoresist.